К содержанию
Шрифт
А
А
А
Цвет
Ц
Ц
Ц
Ц
Ц
Дополнительно
Графика
Включить
Отключить
Монохромные изображения
Отключить Flash
Кернинг
Стандартный
Средний
Большой
Интервал
Одинарный
Полуторный
Двойной
Гарнитура
Без засечек
С засечками
Звук
Отключить
Тише
Нормально
Громче
Текущий уровень громкости:
50
Вернуть стандартные настройки
Обычная версия сайта
Закрыть дополнительные настройки
© Слабовид LITE: Версия для слабовидящих
Вы здесь:
Главная
Продукция
Интегральные микросхемы
Электронная компонентная база устойчивая к СВВФ
ПЛИС и БМК
ПЛИС и БМК
Подбор параметров
Прототип
RH1020
Тип корпуса
4226.108-2
H18.64-3B
Выбрано:
0
Показать
ПЛИС и БМК
* - освоение
5577ХС3Т
Прототип:
RH1020
Функциональное назначение:
ПЛИС объемом 2000 вентилей
Тип корпуса:
4226.108-2
5585БЦ1У
Функциональное назначение:
Базовый матричный кристалл объемом 500 логических вентилей
Тип корпуса:
H18.64-3B